商品名稱:

晶圓電鑄

規格介紹:

晶圓電鑄|高精度微結構複製解決方案

 晶圓電鑄技術專為高精度微結構複製與金屬模仁製作開發,適用於MEMS元件、微流道晶片、微機構結構及各類精密金屬結構轉製。透過穩定的電鑄沉積控制,可完整複製微米級輪廓,確保尺寸一致性與結構精度,提升後續製程良率與產品穩定性。

詳細介紹:
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 本公司長期與多家廠商及台灣各大專院校合作,專注於微結構晶圓電鑄技術開發,協助研究生與實驗室完成高精度電鑄模仁製作,並支援各類微結構製程驗證與轉製量產。

目前已開發專用4~8吋晶圓治具系統,可於晶圓基板上進行高均勻度金屬電鑄沉積,精確複製各式微米級結構。
 針對高深寬比(High Aspect Ratio)流道與微結構,亦能有效進行完整填覆與結構轉製,確保輪廓精度與尺寸一致性。

 本製程可應用於MEMS、微流道晶片、微模具開發及各類高精密金屬結構製作,提供從研究開發到製程優化之整合技術支援。