黃光設備

 Photo Mask

 Size

 5"9"

 Substrate

 Size

 4"8"

 thickness

 0.22.0mm

 Photoresist mode

 Dry Film

 Liquid

PR 厚度對應解析能力

Photoresist

Mode

Thickness

Line

Space

備註

Dry Film
(Negative)

15 um

9um

9um

目前已知解析能力
其餘厚度與精度
需再測試

30um

20um

15um

45um

25um

25um

80um

35um

35um

90~105um

80um

100um

160um

30~40um

50~60um

400um

70~80um

100~110um

Liquid
(positive)

9um

3um

3um

可鍍金

厚度:視PR厚度

規格需另外確認

15um

7um

7um

30um

10um

10um

40um

20um

20um

PSPI

(Negative)

7~10um

10 / 10 um

10 / 10 um

*以上資訊初略統整資訊,若有其它不同PR條件或更多客製化需求,歡迎來電/來信詢問。