Double Sided-V蝕刻
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規格介紹:
Spin Etch 蝕刻機－Double Sided-V
規格介紹:Spin Etch 蝕刻機－Double Sided-V
● Substrate size： 150 x 120 mm
● Effective area： 100 x 100 mm
● Chemical：FeCl3
S● ingle etch
● Metal：Cu type
○ Thickness ：30～ 150um
○ Uniformity ± 3um
